东方晶源PanGen渠道再添新成员 套刻符号优化东西PanOVL上线
时间: 2024-10-28 16:06:51 | 作者: 贝博官网
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当半导体制作工艺演进到22nm及以下节点时，跟着多重图形技能的引进，对不同工艺层之间套刻(Overlay)差错的要求渐渐的变高。套刻丈量技能可分为根据像面图像辨认丈量技能和根据衍射原理的DBO(DiffractionBasedOverlay)丈量技能。比较于根据图像辨认的办法，根据衍射的套刻差错丈量具有愈加好的丈量成果重复性、更低的设备引起丈量差错TIS(ToolIntroducedShift)、可习惯更小的特征尺度等特色，成为大规模集成电路22nm及以下工艺技能节点所广泛选用的套刻丈量方法。
为了丈量套刻差错，在晶圆上需求专门规划特定的套刻符号，套刻差错设备丈量的功能特别大程度上取决于套刻符号的规划。根据核算光刻的DBO套刻标识优化东西能够仿真套刻差错丈量的要害目标，然后根据仿真成果能给出具有更佳体现的套刻符号规划的详细计划，从而缩短符号研制的周期并进步整个光刻进程的功率和质量。
东方晶源根据坚实的核算光刻渠道PanGen®推出了DBO套刻符号仿真优化产品PanOVL，能够对套刻符号从多个要害目标维度打开核算仿真。一起考虑大规模仿真海量套刻符号的使用场景，PanOVL引进了分布式的核算结构，大大加快了经过仿真寻觅更优套刻符号的功率。
东方晶源的PanOVL软件使用PanGenOPC®引擎以及PanGenSim®严厉电磁场仿真引擎，凭借GPU+CPU混算渠道和PanGen®分布式核算结构，能够直接进行大规模套刻符号仿真，并归纳多重维度的仿真成果优选出体现更佳的套刻符号计划用于实践光刻工艺。PanOVL能够辨认具有较大工艺窗口的套刻符号、给出满意杰出信噪比而且勘探信号抗工艺扰动才能更强的套刻符号，还能够仿真曝光进程像差对套刻符号的影响，供给令套刻丈量成果更贴合器材实在的状况的套刻符号。
东方晶源PanOVL产品的发布丰厚了PanGen®核算光刻渠道产品矩阵，一起经过以PanOVL产品为枢纽能够加强与产业链上下游的协作，为客户供给更全面的服务，助力客户在晶圆制作才能方面的提高。PanOVL的研制将进一步夯实东方晶源在核算光刻范畴的技能全面性和拓展性，为业界带来愈加*、前瞻的晶圆制作EDA解决计划。类型：广告
